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基于硅锗的IC工作到破记录110GHz

关键词:其它

时间:2003-07-09 12:06:00      来源:中电网

动态频率分频器的分频比例为2,输入频率110GHz,电流62mA

9月3日讯,Infineon公司把基于硅锗的高频集成电路破记录地提升到110GHz的高度。所测量的电路表明,其性能和其它供应商的同类产品相比,提高10-30%的工作频率,使其能应用在高频产品和高速通信系统。从这种技术受益的将是高速分立元件(晶体管和二极管),40Gbps低功耗有线通信系统,高速微波无线链路,高达60GHz的超宽带通信系统和77GHz汽车雷达系统。

Infineon公司根据它的SiGe:C双极工艺,设计了几种用于高速通信的主要功能块,它的截止频率大于200GHz,所演示的振荡器门延迟时间为3.7ps。高性能电路的测试也表明,很平稳的晶体管参数能用在模拟和数字应用,有很低的噪音。采用这种技术,研究人员演示了几种破记录的IC:110GHz+动态频率分频器,86GHz静态频率分频器和95GHz压控振荡器(VCO)以及77GHz汽车雷达收发器。其结果表明,SiGe双极工艺很适合各种高速模拟和数字方面的应用,如Gbps数据通信和宽带无线应用或微波产品。动态频率分频器的分频比例为2,最大输入频率为110GHz。该电路的工作电压为5V,消耗电流62mA。而静态分频器(分频比例为32)的最大输入频率为86GHz,工作电压为5V,消耗电流仅为180mA。

建造高频收发器的关键元件是压控振荡器(VCO)。Infineon公司开发和制造了工作在95-98GHz的VCO,在1MHz载波偏移频率下相位噪音仅为-97dBc/Hz。输出功率为-6dBm,5V工作时的电流为很低的12mA。

SiGe工艺是一种证明成熟的有70GHz 的fT工艺,所生产的产品包括有RF晶体管,低噪音放大器和用于移动无线基站的单片微波集成电路。详情请上网:www.infineon.com
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