Magma推出支持Chartered增强的65纳米低功耗工艺的参考流程

Magma新一代增强的65纳米低功耗工艺的基于Common Platform技术、基于Talus®的低功耗RTL-to-GDSII集成电路（IC）设计流程正式面市。这项增强的65纳米低功耗工艺被简称为65nm LPe；它通过利用创新性减少漏电技术，可显著降低高达50%的片上系统（SoC）待机功耗。

基于微捷码Talus IC实现系统，这款支持Chartered 65LPe的低功耗参考流程包含进了Talus Power Pro，通过在单一环境中贯穿整个实现阶段地使用各种技术，从而将功耗降至最低，同时最大程度提高性能并缩短设计周期。

这款参考流程完全支持统一功率格式（UPF），通过使用有低功耗设计意向的规则和Chartered 65nm LPe工艺，可用以实现包含有ARM(R)标准单元和存储器知识产权（IP）以及Aragio解决方案I/O库的复杂层次化设计。作为广大EDA供应商都支持的一项标准，统一功率格式（UPF）可支持所有适用于低功耗设计的设计流程和解决方案。

Talus低功耗设计实现流程

微捷码通用平台(ommon Platform)65纳米低功耗参考流程以包括Talus Design和Talus Vortex在内的Talus实现系统为基础，为高性能、高复杂度、低功耗纳米设计提供了一个完全集成化的RTL-to-GDSII流程。

Talus Power Pro通过与全芯片综合环境Talus Design和Talus Vortex物理设计解决方案结合使用，可贯穿整个流程地实现最佳功率管理。它提供了有功耗意识的综合、物理优化、时钟树综合和布线等功能，使得设计师能够最大程度降低功耗，确保一致的功率分布。

Talus Power Pro可在RTL-to-GDSII流程初期从UPF文件中读入功率约束。时钟门控、保持触发器综合（retention-flop synthesis）和多电压域（multi-Vdd）定义等功率约束可被定义以实现动态功耗降低；保持单元等特殊单元在综合阶段可以为支持多电压域流程推断生成；对于电源关闭的区域，电源开关在寄存器转换层（RTL）阶段可以被推断生成，便于仿真；状态表可用以定义已建立的不同电源域间的关系。此外，Talus Power Pro还可在设计流程的任何时候写出UPF文件，实现与第三方工具的简单互操作性。

Talus Design可被用于RTL快速开发和贯穿整个设计工艺的芯片级约束、自动化数据路径综合并平面布局原型的生成；Talus Vortex是一款完整的物理实现系统，提供了较常规单点工具流程更为卓越的时序和信号完整性、更小的面积、更低的功耗、更好的可制造性、更快的周期时间和更高的容量。

面市时间

这款参考流程现已可供微捷码客户免费使用。