中国电子技术网

设为首页 网站地图 加入收藏

 
 
  • 首页 > 新品 > Cadence与SMIC提供混合信号参考流程与工艺设计工具包

Cadence与SMIC提供混合信号参考流程与工艺设计工具包

关键词:Cadence SMIC 混合信号参考流程 工艺设计工具包

时间:2008-09-25 16:22:00      来源:中电网

这种混合信号参考流程基于SMIC的130纳米混合模式、射频PDK与Cadence Virtuoso和可制造性设计技术。它为设计团队提供了一种参考设计环境、基线流程以及一个设计样例

Cadence设计系统公司宣布,公司已经与全球领先的晶圆厂中芯国际公司合作,开发一种兼容最新版Cadence? Virtuoso?定制设计平台的混合信号参考流程与工艺设计工具包(PDK)。该参考流程与PDK目前已经推出,面向使用混合信号芯片进行SMIC 130纳米工艺设计的共同客户。

这种混合信号参考流程基于SMIC的130纳米混合模式、射频PDK与Cadence Virtuoso和可制造性设计技术。它为设计团队提供了一种参考设计环境、基线流程以及一个设计样例,展示设计师应如何成功使用SMIC工艺技术和Cadence Virtuoso IC 6.1平台。此经过优化的、可预测的从原理图到GDSII的流程,为设计团队提供出色的指导,让他们创建SoC或开发自己的流程。

详情见:www.cadence.com



 
  • 分享到:

 

猜你喜欢

  • 主 题:IO-Link 技术介绍及相关设计解决方案
  • 时 间:2024.05.22
  • 公 司:ADI & Arrow